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真空設(shè)備工藝腔體清潔SPR-08

RPS遠(yuǎn)程等離子體源
真空設(shè)備工藝腔體清潔SPR-08

產(chǎn)品對(duì)比

RPS正面.jpg

RPS遠(yuǎn)程等離子體源
真空設(shè)備工藝腔體清潔SPR-08

SPR-08是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級(jí)別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用下，原材料氣體會(huì)被解離，從而釋放出自由基，活性離子進(jìn)入工藝室與工藝室上沉積的污染材料（SIO/SIN）或者殘余氣體（H2O、O2、H2、N2）等物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，聚合為高活性氣態(tài)分子經(jīng)過真空泵組抽出處理腔室，提高處理腔室內(nèi)部潔凈度。

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