提供大氣等離子清洗機(jī)、真空等離子清洗機(jī)、寬幅等離子清洗機(jī)、微波等離子清洗機(jī)、等離子去膠機(jī)、接觸角測(cè)量?jī)x、USC干式超聲波除塵、遠(yuǎn)程等離子源RPS等一站式服務(wù)設(shè)備
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可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型
全自動(dòng)雙腔設(shè)計(jì)，可兼容6-8英寸WAFER
可測(cè)單晶片樣品的最大尺寸為12英寸
溫度可達(dá)1250℃，可測(cè)單晶片樣品最大尺寸為6英寸
自由基分子的等離子體無(wú)偏壓，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品有電性損壞，去膠速率快
可測(cè)量樣品表面疏水性、潤(rùn)濕性能、表面張力等測(cè)試功能
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