在半導(dǎo)體領(lǐng)域，等離子清洗技術(shù)已經(jīng)成為提升產(chǎn)品品質(zhì)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。長(zhǎng)期以來(lái)，高端等離子清洗設(shè)備市場(chǎng)被國(guó)外品牌壟斷，但國(guó)產(chǎn)晟鼎等離子清洗機(jī)的快速崛起正打破這一局面。晟鼎憑借其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和本土化服務(wù)，正逐漸獲得行業(yè)認(rèn)可，發(fā)展成為等離子清洗設(shè)備領(lǐng)域的一匹黑馬。

在柔性顯示屏中，UTG表面需沉積抗指紋涂層、導(dǎo)電層等功能性薄膜，并確保后續(xù)與偏光片、OLED發(fā)光層等組件的高度結(jié)合質(zhì)量。因此，UTG表面需具備良好的潤(rùn)濕性和穩(wěn)定的化學(xué)特性。等離子技術(shù)憑借高密度活性等離子體實(shí)現(xiàn)材料表面改性，提升超薄柔性玻璃（UTG）界面結(jié)合力，同時(shí)契合綠色制造需求，成為折疊屏核心材料升級(jí)的關(guān)鍵賦能技術(shù)。

等離子清洗機(jī)是一種高科技的干式表面處理設(shè)備，通過(guò)高壓電源電離氣體產(chǎn)生等離子體，等離子體直接作用在產(chǎn)品表面達(dá)到活化、清洗、去膠等作用，提升表面潤(rùn)濕性能及表面附著力。

RPS遠(yuǎn)程等離子源是基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，利用原子的高活性強(qiáng)氧化特性，達(dá)到清洗CVD或其他腔室后生產(chǎn)工藝的目的。

等離子去膠機(jī)是一種利用高能等離子體去除材料表面有機(jī)污染物和光刻膠的先進(jìn)設(shè)備。晟鼎半導(dǎo)體作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的表面處理解決方案提供商，研發(fā)的等離子去膠機(jī)系列產(chǎn)品憑借其卓越性能和穩(wěn)定性，已成為半導(dǎo)體、微電子和光電顯示等行業(yè)的關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備。

在點(diǎn)膠裝片前，基板上如果存在污染物，銀膠容易形成圓球狀，降低芯片粘結(jié)度。因此，在DB工藝前，需要進(jìn)行等離子處理，提高基板表面的親水性和粗糙度，有利于銀膠的平鋪及芯片粘貼，提高封裝的可靠性和耐久性。在提升點(diǎn)膠質(zhì)量的同時(shí)可以節(jié)省銀膠使用量，降低成本。